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| 電磁流量計(jì)的電極選擇 |
| 電磁流量計(jì)的電極選擇 | | 發(fā)布時(shí)間：2012/12/7 10:57:12 |
| 信息內(nèi)容： |
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┃ 化學(xué)液體介質(zhì) ┃ 鉑銥合金 ┃ 鉭 ┃ 其他材料 ┃
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┃氟化鋁(Mumnum fluoride) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃硝酶鋁(Alum/num nitnd,e) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氟化鍍（um fluaride) ┃ ^ ┃ × ┃ B（哈氏合金c） ┃
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┃氫氧化鋇(Barium hydroxide) ┃ ^ ┃ × ┃ ┃
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┃二氧化氯 ┃ X ┃ ^ ┃ ┃
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┃氧化a (Coppe:r fluoride) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氧化銅40qte ┃ × ┃ ^ ┃ ┃
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┃氯氧鍘(CopperOIyehloride) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氯化鐵 ┃ X ┃ A ┃ B(哈氏合金c) ┃
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┃氯化鋅(Zinede) 50% ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃-氳硅酸 (fluosilicic acid) 10 -40% ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氫溴酸（Hyrirobnxrucacid）50% ┃ × ┃ A ┃ ┃
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┃氧氟酸(HydofluOric acid) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氫氟硅酸（HydroOaoailieie Neid）35% ┃ A ┃ × ┃ B（哈氏合金c） ┃
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┃歡氰酸（Hypochlomusm）10%一∞% ┃ X ┃ A ┃ B(哈氏合金c) ┃
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┃己酸鉛（Lead aCPle） ┃ × ┃ A ┃ ┃
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┃氧氧化鎂(Pdal?Fesium trydroxide) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氫氧化鉀(Pobrasiumhydmxide) 10% -40th ┃ ^ ┃ × ┃ ┃
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┃氰化鈉 ┃ X ┃ A ┃ ┃
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┃氰鐵酸鈉(Sadium famcyanide) ┃ X ┃ B ┃ ┃
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┃氰亞鐵酸鈉(Sadium famrneyide) ┃ × ┃ B ┃ ┃
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┃氟化鈉(s。dium fluoride) 5%。50r2a ┃ A ┃ X ┃ ┃
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┃氨氧化鈉(sodium hydroxide) ┃ A ┃ × ┃ B（哈氏合金c> ┃
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┃硫酸(Sulfirric acid) 10%一∞% ┃ ^ ┃ A ┃ ┃
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┃硫代硫酸鈉(Sodium thiosulfate) ┃ × ┃ X ┃ A（哈氏合金C） ┃
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┃ 化學(xué)液體介質(zhì) ┃ 鉑銥合金 ┃ 鉭 ┃ 其他材料 ┃
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┃氟化鋁(Mumnum fluoride) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃硝酶鋁(Alum/num nitnd,e) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氟化鍍（um fluaride) ┃ ^ ┃ × ┃ B（哈氏合金c） ┃
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┃氫氧化鋇(Barium hydroxide) ┃ ^ ┃ × ┃ ┃
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┃二氧化氯 ┃ X ┃ ^ ┃ ┃
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┃氧化a (Coppe:r fluoride) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氧化銅40qte ┃ × ┃ ^ ┃ ┃
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┃氯氧鍘(CopperOIyehloride) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氯化鐵 ┃ X ┃ A ┃ B(哈氏合金c) ┃
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┃氯化鋅(Zinede) 50% ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃-氳硅酸 (fluosilicic acid) 10 -40% ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氫溴酸（Hyrirobnxrucacid）50% ┃ × ┃ A ┃ ┃
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┃氧氟酸(HydofluOric acid) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氫氟硅酸（HydroOaoailieie Neid）35% ┃ A ┃ × ┃ B（哈氏合金c） ┃
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┃歡氰酸（Hypochlomusm）10%一∞% ┃ X ┃ A ┃ B(哈氏合金c) ┃
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┃己酸鉛（Lead aCPle） ┃ × ┃ A ┃ ┃
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┃氧氧化鎂(Pdal?Fesium trydroxide) ┃ A ┃ × ┃ ┃
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┃氫氧化鉀(Pobrasiumhydmxide) 10% -40th ┃ ^ ┃ × ┃ ┃
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┃氰化鈉 ┃ X ┃ A ┃ ┃
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┃氰鐵酸鈉(Sadium famcyanide) ┃ X ┃ B ┃ ┃
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┃氰亞鐵酸鈉(Sadium famrneyide) ┃ × ┃ B ┃ ┃
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┃氟化鈉(s。dium fluoride) 5%。50r2a ┃ A ┃ X ┃ ┃
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┃氨氧化鈉(sodium hydroxide) ┃ A ┃ × ┃ B（哈氏合金c> ┃
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┃硫酸(Sulfirric acid) 10%一∞% ┃ ^ ┃ A ┃ ┃
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┃硫代硫酸鈉(Sodium thiosulfate) ┃ × ┃ X ┃ A（哈氏合金C） ┃
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